净化工程气压规定：

　　对于大部分洁净空间，为了防止外界污染侵入，需要保持内部的压力(静压)高于外部的压力(静压)。压力差的维持一般应符合以下原则：

　　1.洁净空间的压力要高于非洁净空间的压力。

　　2.洁净度级别高的空间的压力要高于相邻的洁净度级别低的空间的压力。压力差的维持依靠新风量，这个新风量要能补偿在这一压力差下从缝隙漏泄掉的风量。所以压力差的物理意义就是漏泄(或渗透)风量通过洁净室的各种缝隙时的阻力。5μm，例如，1级、10级、100级无尘室、1大尘粒数目分别小于或等于1颗、10颗、100颗，如果尘粒尺寸不是0。洁净室中的气流速度规定这里要讨论的气流速度是指洁净室内的气流速度，在其他洁净空间中的气流速度在讨论具体设备时再说明。对于乱流洁净室

由于主主要靠空气的稀释作用来减轻室内污染的程度，所以主要用换气次数这一概念，而不直接用速度的概念，

　　不过对室内气流速度也有如下要求：

　　(1)送风口出口气流速度不宜太大，和单纯空调房间相比，要求速度衰减更快，扩散角度。

　　(2)吹过水平面的气流速度(例如侧送时回流速度)不宜太大，以免吹起表面微粒重返气流，而造成再污染，这一速度一般不宜大干0.2m/s。

光学微电子净化工程-洁净车间技术解决方案

　　光学微电子净化工程之定义为将一定空间范围内之空气中的微尘粒子、有害空气、细1菌等之污染物排除，并将室内之温湿度、洁净度、室内压力、气流速度与气流分布、噪音震动及照明、静电控制在某一需求范围内，而所给于---设计之密闭空间。

　　光学微电子净化工程亦名无尘室或清净室，已是半导体、精密制造、液晶制造、光学制造、线路板制造和生物化学、医1药、食品制造等行业不可或缺的重要设施。近几年来，由于技术之发展，对于产品的高精密度化、细小型化之需求更为迫切，如---型积体电路之研究制造，已成为---在科技发展上---重视的项目，而我公司的设计理念及施工技术在行业中则处于领1先---。洁净度级别高的空间的压力要高于相邻的洁净度级别低的空间的压力。

净化工程中空气净化处理方案：

　　净化工程中各级空气洁净度的空气净化处理，均应采用初效、中效、高1效空气过滤器三级过滤。100000级空气净化处理，可采用亚高1效空气过滤器代高1效空气过滤器。

　　空气过滤器的选用布置和安装方式，应符合：初效空气过滤器不应选用浸油式过滤器;中效空气过滤器宜集中设置在净化空气调节系统的正压段;高1效空气过滤器或亚高1效空气过滤器宜设置在净化空气调节系统末端，高1效空气过滤的安装方式应简便---，宜检漏和更换;中效、亚高1效、高1效空气过滤器宜按额定风量选用;阻力、效率相近的高1效空气过滤器宜设置在同一净化车间内。使用机械包装产品可提高生产效率,降低劳动强度,适应---生产的需要，并满足清洁卫生的要求。

净化技术的设备发展

　　对于半导体设备来讲，净化工程技术在微电子技术中起着十分重要的作用。微电子技术的---是集成电路，而集成电路的生产对其工艺环境和工艺流程中的净化技术和设备提出了严格的要求。我国“九五”期间大力发展以微电子为重点的信息产业。净化空气调节系统设计应合理利用回风，凡工艺过程产生大量---且局部处理不能满足卫生要求，或对其他工序有危害时，则不应用回风。净化工程技术水平在某种---已成为衡量一个和地区科学技术水平和工业水平的一个重要标志。